阻抗控制装置及具有阻抗控制装置的基板处理系统
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗的阻抗控制装置及具备其的基板处理系统。所述基板处理系统包括：壳体，提供用于处理基板的空间；基板支承部件，设置在壳体的内部，并且支承基板；等离子体产生单元，在壳体的内部产生等离子体；环组件，布置在基板的周围；以及阻抗控制部，控制环组件的周边的阻抗，并且预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗。
基本信息
专利标题 ：
阻抗控制装置及具有阻抗控制装置的基板处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114446754A
申请号 ：
CN202111251676.4
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
成晓星赵台勳黄政渊闵堤泓
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN202111251676.4
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20211025
申请日 : 20211025
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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