基板处理装置和阻抗匹配方法
实质审查的生效
摘要
公开了一种用于处理基板的装置。该装置包括：RF电源；处理腔室，其利用从RF电源施加的功率执行等离子体处理；和阻抗匹配单元，其设置在RF电源和处理腔室之间并执行匹配，其中，RF电源包括测量在处理腔室和阻抗匹配单元的方向上的阻抗的第一传感器，并且阻抗匹配单元通过反映在RF电源中经由第一传感器测量的阻抗来执行阻抗匹配。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置和阻抗匹配方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512390A
申请号 ：
CN202111369779.0
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金永国赵台勋朴君昊具滋明
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111369779.0
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20211116
申请日 : 20211116
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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