一种阻抗匹配靶制造方法
授权
摘要
一种阻抗匹配靶制造方法,采用单点金刚石车削技术加工标准材料台阶,采用机械研磨技术分别通过双面研磨、单面研磨、手工研磨加工待测材料薄膜,通过聚乙烯醇溶液将待测材料薄膜与标准材料台阶装配成阻抗匹配靶。本方法分别采用固态块材加工成标准材料与待测材料样品,可确保加工前后材料纯度、密度不变,满足阻抗匹配实验用靶材料尽可能为纯净密实材料的需求,降低材料密度、纯度变化造成的物理实验结果不确定度的增加,通过聚乙烯醇溶液将标准材料/待测材料样品粘接在一起,可满足标注材料与待测材料之间的力学平衡条件和界面连续条件。
基本信息
专利标题 :
一种阻抗匹配靶制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111681782A
申请号 :
CN202010556546.0
公开(公告)日 :
2020-09-18
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN111681782B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
谢军杜凯高莎莎郑凤成易泰民蒋柏斌王红莲何智兵张海军杨洪魏胜袁光辉童维超张荩月任玮
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省绵阳市919信箱987分箱
代理机构 :
中国工程物理研究院专利中心
代理人 :
刘璐
优先权 :
CN202010556546.0
主分类号 :
G21B1/19
IPC分类号 :
G21B1/19 B24B1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21B
聚变反应堆
G21B1/00
热核聚变反应堆
G21B1/11
零件
G21B1/19
产生热核聚变反应的靶子
法律状态
2022-06-07 :
授权
2020-10-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21B 1/19
申请日 : 20200618
申请日 : 20200618
2020-09-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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