双模式半主动激光导引头和成像系统
公开
摘要
一种双模式半主动激光导引头和成像系统的系统和方法，使用脉冲检测和角度确定，应用于四边检测器以正确识别正确的指定点。角度性能由成像系统的视野来驱动。成像系统分辨率为制导提供所需的角度精度，如脉冲检测孔所提示。成像系统消除了在撞击前指定的需要，从而消除了对指定标的反击的暴露。在撞击之前消除指定也为单个指定标快速交战多个目标提供了机会。
基本信息
专利标题 ：
双模式半主动激光导引头和成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631000A
申请号 ：
CN202080075951.9
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小R·D·弗雷
申请人 ：
BAE系统信息和电子系统集成有限公司
申请人地址 ：
美国新罕布什尔州
代理机构 ：
北京三幸商标专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘卓然
优先权 ：
CN202080075951.9
主分类号 ：
F42B15/01
IPC分类号 ：
F42B15/01 G01S17/66 G01S3/783 G01S3/784 G01S17/86 F41G3/14 F41G7/00 F41G7/22 F41G7/26
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F42
弹药；爆破
F42B
爆炸装药，例如用于爆破；烟火；弹药
F42B
爆炸装药，例如用于爆破；烟火；弹药
F42B15/00
自推进弹或发射物，例如火箭；导弹
F42B15/01
制导或控制装置
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
