表面保护薄膜
授权
摘要
提供一种表面保护薄膜，其包含粘合剂层且代表性地在光学构件和电子构件的制造工序中为了防止加工、组装、检查、输送等时的该光学构件和该电子构件的表面的损伤而贴接于该光学构件和该电子构件的露出面，其充分抑制剥离静电压，在剥离时不会损坏该光学构件和该电子构件。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含粘合剂层，构成该粘合剂层的粘合剂由粘合剂组合物形成，该粘合剂组合物包含基础聚合物、离子性化合物、和氟系化合物，该粘合剂层表面的相对于二碘甲烷的表面自由能为6mJ/m2～30mJ/m2。
基本信息
专利标题 ：
表面保护薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113249053A
申请号 ：
CN202110111988.9
公开（公告）日 ：
2021-08-13
申请日 ：
2021-01-27
授权号 ：
CN113249053B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
舟木千寻佐佐木翔悟立川悠
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202110111988.9
主分类号 ：
C09J7/30
IPC分类号 ：
C09J7/30 C09J175/04 C09J11/06 C09J11/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J7/00
薄膜或薄片状的粘合剂
C09J7/30
特征在于粘合剂组成
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2021-09-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09J 7/30
申请日 : 20210127
申请日 : 20210127
2021-08-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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