基板玻璃面抛光设备
授权
摘要

本公开涉及一种基板玻璃面抛光设备,包括相对设置的机架上平台和机架下平台、驱动机构以及抛光结构,驱动机构包括至少两级平行双曲柄机构,驱动机构中的第一级平行双曲柄机构的动力输入端连接于机架上平台和机架下平台中的一者,驱动机构中的末级平行双曲柄机构的动力输出端与待抛光的基板玻璃和抛光结构中的一者连接,待抛光的基板玻璃和抛光结构中的另一者设置于机架上平台和机架下平台中的另一者,至少两级平行双曲柄机构同时且相互独立地运转,以带动待抛光的基板玻璃和抛光结构中的一者平行于待抛光的基板玻璃和抛光结构中的另一者平动。通过上述技术方案,能够保证基板玻璃表面上各点得到均匀一致的抛光,有效地提高生产效率。

基本信息
专利标题 :
基板玻璃面抛光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112847119A
申请号 :
CN202110145868.0
公开(公告)日 :
2021-05-28
申请日 :
2021-02-02
授权号 :
CN112847119B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
李青李赫然王耀君廖民安张旭李庆文胡恒广
申请人 :
河北光兴半导体技术有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭科技集团有限公司
申请人地址 :
河北省石家庄市高新区黄河大道9号
代理机构 :
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
胡婷婷
优先权 :
CN202110145868.0
主分类号 :
B24B29/08
IPC分类号 :
B24B29/08  B24B41/06  B24B41/02  B24B49/00  B24B55/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
B24B29/06
用于在一个主方向有均匀截面的长形的工件
B24B29/08
其截面为圆形,如管子,导线,针
法律状态
2022-04-15 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 29/08
申请日 : 20210202
2021-05-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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