一种液相纳米红外光谱等离激元共振增强基底及其制备方法和应...
授权
摘要

本发明涉及一种用作液相纳米红外光谱的等离激元共振增强基底。具体涉及一种采用物理沉积技术在可见‑红外区透明的光学晶片表面制备大面积高度规整有序的金属结构阵列的方法及其在液相纳米红外光谱中的应用。本发明将微球自组装于容器中的气/液界面,随后沉积至可见‑红外区透明的光学晶片表面,利用物理沉积技术在光学晶片表面制备得到金属纳米薄膜材料,经移除微球薄膜,可在可见‑红外区透明的光学晶片表面获得大面积高度规整有序的金属结构阵列;基于该方案制备的增强基底,可以通过其在中红外区的等离激元共振激发,实现液相纳米尺度红外光谱的分析,检测灵敏度可以达到单分子层量级,远高于常用的全内反射棱镜增强基底,因此,可作为新型的高性能的液相纳米红外光谱基底。

基本信息
专利标题 :
一种液相纳米红外光谱等离激元共振增强基底及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112981324A
申请号 :
CN202110179437.6
公开(公告)日 :
2021-06-18
申请日 :
2021-02-07
授权号 :
CN112981324B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
夏兴华李剑李今
申请人 :
南京大学
申请人地址 :
江苏省南京市栖霞区仙林大道163号南京大学
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
张雅文
优先权 :
CN202110179437.6
主分类号 :
C23C14/14
IPC分类号 :
C23C14/14  C23C14/04  G01N21/01  G01N21/3577  B82Y40/00  B82Y30/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-07-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/14
申请日 : 20210207
2021-06-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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