一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法
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摘要
本发明公开了一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法，包括A收集植被的遥感影像和DEM数据；B由所述DEM数据计算坡度、坡向，对所述遥感影像进行大气校正，获得地表反射率；C根据坡度数据和地表反射率计算各像元对应的植被指数NIRv和地形校正因子P；将所述植被指数NIRv和地形校正因子P作为输入计算抗地形植被指数。本发明提出的在原有植被指数引入地形校正因子进行校正的方法，普适性强，具有较强的抗地形性和表征植被结构的能力，有望进一步提高植被指数在山区的应用潜力。
基本信息
专利标题 ：
一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112986241A
申请号 ：
CN202110198563.6
公开（公告）日 ：
2021-06-18
申请日 ：
2021-02-22
授权号 ：
CN112986241B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
尹高飞陈瑞
申请人 ：
西南交通大学
申请人地址 ：
四川省成都市高新区西部园区犀安路999号
代理机构 ：
北京德崇智捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
申星宇
优先权 ：
CN202110198563.6
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84 G01N21/552
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-07-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/84
申请日 : 20210222
申请日 : 20210222
2021-06-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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