一种基于纳米天线的马赫-曾德尔干涉仪

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摘要

本发明公开了一种基于纳米天线的马赫‑曾德尔干涉仪。该干涉仪包括下基板(1)、调制器(2)、双折射材料(3)、上基板(4)；所述调制器(2)位于下基板(1)上；所述双折射材料(3)填充于下基板(1)与上基板(4)之间，并包裹调制器(2)；所述调制器(2)的移相器(2‑1)为亚波长纳米天线(2‑2)阵列；光在通过纳米天线(2‑2)时，发生米氏共振，具有高前向散射率的同时获得相位延迟，该相位延迟量由双折射材料的折射率控制；通过调制所述双折射材料的折射率，实现干涉仪的输出强度调制。本发明相较于传统的马赫‑曾德尔干涉仪，调制效率更高，工作速度更快，且与CMOS工艺兼容，有利于器件的集成并节约成本。

基本信息

专利标题：

一种基于纳米天线的马赫-曾德尔干涉仪

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112859477A

申请号：

CN202110229598.1

公开（公告）日：

2021-05-28

申请日：

2021-03-02

授权号：

CN112859477B

授权日：

2022-04-05

发明人：

杨可扬夏军

申请人：

东南大学

申请人地址：

江苏省南京市玄武区四牌楼2号

代理机构：

南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)

代理人：

沈廉

优先权：

CN202110229598.1

主分类号：

G02F1/21

IPC分类号：

G02F1/21 G02F1/313 G02F1/13363