三维超导量子比特以及用于制造其的方法
公开
摘要
一种三维超导量子比特包括：结构基部，其包括一种或多种绝缘材料；和在所述结构基部的表面上的超导图案。所述超导图案形成三维超导量子比特的至少电容部分和电感部分。所述结构基部的所述表面的第一表面限定第一平面，并且所述结构基部的所述表面的第二表面限定第二平面，所述第二平面与所述第一平面不同地取向。所述超导图案中的至少一个超导图案从所述第一表面延伸到所述第二表面。
基本信息
专利标题 ：
三维超导量子比特以及用于制造其的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114611440A
申请号 ：
CN202110234964.2
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2021-03-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·奥克龙-科尔比李天一刘伟瓦西里·塞夫留克T·那吉亚马蒂·耶尼J·哥茨陈冠言M·莫托宁曾国维
申请人 ：
IQM芬兰有限公司
申请人地址 ：
芬兰埃斯波
代理机构 ：
重庆智鹰律师事务所
代理人 ：
唐超尘
优先权 ：
CN202110234964.2
主分类号 ：
G06F30/33
IPC分类号 ：
G06F30/33 G06N10/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/33
设计验证，例如功能仿真或模型检查
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
