用于产生光栅耦合器的物理布局的方法
公开
摘要
一种用于产生集成在光子启用的电路中的光栅耦合器的物理布局的方法及系统。在一些实施例中，所述方法进行以下操作：接收参数化波长、参数化第一折射率、参数化第二折射率、参数化锥形长度、参数化宽度、参数化光栅长度、以及入射到光栅耦合器上的光束的参数化入射角并且基于所接收的参数化输入来产生光栅耦合器的物理布局，所述产生物理布局是根据预定的模型进行；以及输出光栅耦合器的物理布局，以用于在半导体制作工艺下进行制造。
基本信息
专利标题 ：
用于产生光栅耦合器的物理布局的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114371553A
申请号 ：
CN202110400326.3
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-04-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭丰维廖文翔
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
代理机构 ：
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 ：
顾伯兴
优先权 ：
CN202110400326.3
主分类号 ：
G02B27/00
IPC分类号 ：
G02B27/00 G02B6/124
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
法律状态
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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