光轴检测系统的光轴标定方法、装置、终端、系统和介质
授权
摘要
本申请适用于光学领域，提供了一种光轴检测系统的光轴标定方法、装置、终端、系统和介质。其中，该光轴标定方法包括：获取散斑发射装置旋转前后分别采集得到的第一散斑图像和第二散斑图像；提取第一散斑图像中的至少两个第一散斑点，以及在第二散斑图像中的与第一散斑点对应的第二散斑点，得到同一图像坐标系下由第一散斑点以及与第一散斑点对应的第二散斑点连线形成的至少两条线段；计算每条线段的中垂线，并根据各个中垂线的交点，确定光轴参考点。本申请的实施例提供的方法能够降低治具公差对光轴标定的影响，提高光轴标定的准确性。
基本信息
专利标题 ：
光轴检测系统的光轴标定方法、装置、终端、系统和介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113124763A
申请号 ：
CN202110435320.X
公开（公告）日 ：
2021-07-16
申请日 ：
2021-04-22
授权号 ：
CN113124763B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
郑德金段彦旭武万多
申请人 ：
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
唐佳芝
优先权 ：
CN202110435320.X
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02 G06T7/80
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-08-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/02
申请日 : 20210422
申请日 : 20210422
2021-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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