存储器设备
实质审查的生效
摘要
本技术包括一种存储器设备。存储器设备包括：堆叠结构，该堆叠结构包括字线和选择线；垂直孔，该垂直孔垂直地穿透堆叠结构；以及存储器层、沟道层和插塞，存储器层、沟道层和插塞沿着垂直孔的内侧表面顺序地形成。插塞包括具有固定的负电荷的材料层。
基本信息
专利标题 ：
存储器设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114373769A
申请号 ：
CN202110533199.4
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-05-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尹大焕崔吉福
申请人 ：
爱思开海力士有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
黄倩
优先权 ：
CN202110533199.4
主分类号 ：
H01L27/1157
IPC分类号 ：
H01L27/1157 H01L27/11582
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/1157
申请日 : 20210517
申请日 : 20210517
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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