一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法
授权
摘要
本发明属于电化学表面处理技术领域，具体是在具有窄环平面结构的工具钢表面制备耐磨密封性厚铬层的工艺方法。辅助阴极不仅具有遮蔽非镀覆面的功能，同时提高镀了层厚度均匀，镀铬过程中采用阶梯给电的方式，即将镀铬电流从0逐步给定至计算值，控制槽液温度、镀铬电流密度和阴阳极之间的距离，镀层硬度值保持在HV700～HV800之间且表面无裂纹，使其具有较高的硬度、优良的耐磨性及良好的密封性。
基本信息
专利标题 ：
一种窄环平面结构的耐磨密封性铬镀层制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113502511A
申请号 ：
CN202110653561.1
公开（公告）日 ：
2021-10-15
申请日 ：
2021-06-11
授权号 ：
CN113502511B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
薛露平杨战争刘兴斌叶晖张万欣
申请人 ：
西安航天发动机有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区航天基地神舟二路69号
代理机构 ：
中国航天科技专利中心
代理人 ：
张丽娜
优先权 ：
CN202110653561.1
主分类号 ：
C25D3/04
IPC分类号 ：
C25D3/04 C25D5/00 C25D17/10 C25D21/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D3/00
电镀；其所用的镀液
C25D3/02
溶液
C25D3/04
铬的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-11-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 3/04
申请日 : 20210611
申请日 : 20210611
2021-10-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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