一种超高比容电极箔及其制备方法

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摘要

本发明为一种超高比容电极箔及其制备方法。一种超高比容电极箔的制备方法，包括：(1)制备烧结箔；(2)发孔：将所述的烧结箔依次进行钝化处理、水洗、一次发孔、水洗、钝化处理、水洗、二次发孔、水洗、钝化处理、水洗、三次发孔、水洗、后处理、水洗、烘干处理，得发孔后的烧结箔；(3)化成处理。本发明所述的一种超高比容电极箔及其制备方法，在烧结箔基础上进行铝球表面发孔形成的结构特征，可使铝球表面积大幅度增加，从而可获得超高静电容量。

基本信息

专利标题：

一种超高比容电极箔及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113470975A

申请号：

CN202110674269.8

公开（公告）日：

2021-10-01

申请日：

2021-06-17

授权号：

CN113470975B

授权日：

2022-05-17

发明人：

游彭飞陆伟陈锁斌冉杰罗湘平

申请人：

新疆众和股份有限公司

申请人地址：

新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市高新区喀什东路18号众和公司科技管理办公室

代理机构：

北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

孟阿妮

优先权：

CN202110674269.8

主分类号：

H01G9/045

IPC分类号：

H01G9/045 H01G9/055