光学摄像装置、光学检查装置以及光学检查方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开光学摄像装置、光学检查装置以及光学检查方法。根据实施方式,光学摄像装置具备成像光学部、波长选择部以及摄像部。将与成像光学部的第1光轴交叉的轴设为第1轴,将与第1光轴以及第1轴交叉的轴设为第2轴。波长选择部具备多个波长选择区域。多个波长选择区域是根据沿着第1轴的方向与沿着第2轴的方向而分布不同的各向异性波长选择开口。波长选择部使具有第1波长的第1光线和具有第2波长的第2光线针对每个波长选择区域而选择性地同时通过。摄像部同时获取第1光线以及第2光线波长的像。
基本信息
专利标题 :
光学摄像装置、光学检查装置以及光学检查方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114441529A
申请号 :
CN202111008009.3
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2021-08-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
大野博司
申请人 :
株式会社东芝
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 :
李今子
优先权 :
CN202111008009.3
主分类号 :
G01N21/84
IPC分类号 :
G01N21/84 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/84
申请日 : 20210831
申请日 : 20210831
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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