石英坩埚制备装置及降低石英坩埚中脱羟的方法
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摘要

一种石英坩埚制备装置,包括密封壳体、水冷模具、石墨坩埚、第一真空泵、第二真空泵、排气组件,石墨坩埚的底部嵌入水冷模具,第一真空泵的入口与水冷模具的内腔连通,在密封壳体的侧壁上方设有第一连接口,在密封壳体的侧壁下方设有第二连接口,排气组件包括三通接头、第一阀门、第二阀门、第三阀门,三通接头的第一接口与第一连接口连接,三通接头的第二接口与第一阀门的入口连接,第一阀门的出口与第二真空泵的入口连接,第二阀门的入口与三通接头的第三接口连接,第三阀门的入口与第二连接口连接,密封壳体和水冷模具设置独立真空,能满足脱羟工艺过程要求,羟基含量可以降低到20~30ppm,还提供了一种降低石英坩埚中脱羟的方法。

基本信息
专利标题 :
石英坩埚制备装置及降低石英坩埚中脱羟的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113772930A
申请号 :
CN202111086592.X
公开(公告)日 :
2021-12-10
申请日 :
2021-09-16
授权号 :
CN113772930B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
何玉鹏王建军邓红李卫李常国
申请人 :
宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司
申请人地址 :
宁夏回族自治区银川市经济技术开发区光明西路23号
代理机构 :
宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙彦虎
优先权 :
CN202111086592.X
主分类号 :
C03B20/00
IPC分类号 :
C03B20/00  C03C23/00  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C03
玻璃;矿棉或渣棉
C03B
玻璃、矿物或渣棉的制造、成型;玻璃、矿物或渣棉的制造或成型的辅助工艺
C03B20/00
生产石英或熔凝硅石制品的专用方法
法律状态
2022-04-15 :
授权
2021-12-28 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C03B 20/00
申请日 : 20210916
2021-12-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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