成像型X射线显微镜
公开
摘要
本发明提供一种成像型X射线显微镜，即使是高能量的X射线也能够增大数值孔径，即使在实验室内也能够以足够的强度得到放大像。具备：包含微焦点且高输出的X射线源(120)和将辐射的X射线向样品聚光照射的聚光镜(130)的X射线照射部；保持样品的样品保持部；将透过了样品的X射线成像的反射镜型X射线镜头部(150)；以及取得所成像的X射线像的摄像部(190)，构成聚光镜(130)以及反射镜型X射线镜头部(150)的各镜具有形成有对特定波长的X射线具有高的反射率的多层膜的反射面。
基本信息
专利标题 ：
成像型X射线显微镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509452A
申请号 ：
CN202111230312.8
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
表和彦广濑雷太加藤秀一尤里·普拉托洛瓦
申请人 ：
株式会社理学
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张远
优先权 ：
CN202111230312.8
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04 G01N23/046
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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