制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法
实质审查的生效
摘要
一种制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法，包含：提供上电极；提供下电极；设置第一压电材料层于所述上电极及所述下电极之间；设置共振频率决定金属层于所述上电极上，其中所述共振频率决定金属层具有厚度，而使所述薄膜体声波共振装置的共振频率与所述厚度形成曲线；以及当所述曲线上的所述厚度线性变化时，使所述共振频率非线性变化。
基本信息
专利标题 ：
制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114389560A
申请号 ：
CN202111230429.6
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
颜聪富张光瑞蔡群贤李庭鹃蔡群荣
申请人 ：
台湾奈米碳素股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学园区苗栗县竹南镇科研路50-1号5楼
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
肖靖
优先权 ：
CN202111230429.6
主分类号 ：
H03H9/02
IPC分类号 ：
H03H9/02 H03H3/02
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H03H 9/02
申请日 : 20211022
申请日 : 20211022
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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