制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法
实质审查的生效
摘要
一种制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法，包括：提供基板，所述基板具凹部，其中所述凹部具有高度；设置第一压电材料层于所述基板上，而使所述凹部形成气隙；设置下电极于所述第一压电材料层上；当所述高度位于第一范围时，使所述薄膜体声波共振装置的共振频率相对于所述高度具有第一斜率；当所述高度位于第二范围时，使所述共振频率相对于所述高度具有第二斜率；以及使所述第一斜率小于所述第二斜率。
基本信息
专利标题 ：
制造具特定共振频率的薄膜体声波共振装置的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114389556A
申请号 ：
CN202111230456.3
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
颜聪富张光瑞蔡群贤李庭鹃蔡群荣
申请人 ：
台湾奈米碳素股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学园区苗栗县竹南镇科研路50-1号5楼
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
肖靖
优先权 ：
CN202111230456.3
主分类号 ：
H03H3/02
IPC分类号 ：
H03H3/02
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H03H 3/02
申请日 : 20211022
申请日 : 20211022
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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