处理系统
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种在横排配置时容易维护的处理系统。处理系统(10)具有多个处理单元(10a～10d)，各处理单元(10a～10d)具有：具有设置于正面的供工件出入的搬入门(17)和设置于背面的检查门(21)，并且配置在前方的处理室(13)；与处理室(13)分离地配置在处理室(13)的后方，具有与处理室(13)实质上相同的宽度的控制盘(43)；和配置在处理室(13)与控制盘(43)之间，具有与处理室(13)实质上相同的宽度的台阶(31)，在将处理室(13)的各自的正面对齐而在横向上排列配置时，各台阶(31)连接而形成通路。
基本信息
专利标题 ：
处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114453304A
申请号 ：
CN202111233789.1
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
晴柀大树松井大贵
申请人 ：
杉野机械股份有限公司
申请人地址 ：
日本国富山县
代理机构 ：
北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘春成
优先权 ：
CN202111233789.1
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B3/08 B08B5/02 B08B13/00 F26B21/00 B23D79/04 B23D79/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20211022
申请日 : 20211022
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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