基板处理系统
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种基板处理系统，抑制由处理气体造成的测定装置的污染。在测定装置(4)的框体(30)内设置用于形成测定室(S)的测定区域(40)。测定室(S)将晶片(W)的搬运口(33)作为一个侧面，形成为长方体形状。在测定室(S)内设置载置板(42)。光学系统(45)被设置在分隔测定室(S)的顶面的相反侧。由此，光学系统(45)和测定室(S)的通气被遮断。在测定室(S)上设置向搬运口(33)提供清洁空气的供气口(50)。将晶片(W)送入测定室(S)，对晶片(W)进行测定时，从供气口(50)向搬运口(33)提供清洁的空气，将从搬运口(33)流入测定室(S)的处理气体稀释或压回去。
基本信息
专利标题 ：
基板处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1779905A
申请号 ：
CN200510117315.5
公开（公告）日 ：
2006-05-31
申请日 ：
2005-11-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
坂本仪秀菊池俊彦
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN200510117315.5
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 H01L21/67 H01L21/3065 H01L21/66 C23F4/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2014-12-24 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101592566642
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005101173155
申请日 : 20051101
授权公告日 : 20080723
终止日期 : 20131101
号牌文件序号 : 101592566642
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005101173155
申请日 : 20051101
授权公告日 : 20080723
终止日期 : 20131101
2008-07-23 ：
授权
2006-07-26 ：
实质审查的生效
2006-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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