基板处理系统

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供了一种在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统，能够在各个基板上均匀地涂布处理液，还能够提高与曝光装置连动时的基板处理生产率。在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统(100)中，具有：涂布膜形成装置，该装置具有分别载置被处理基板的第一台面(50)和第二台面(59)，以及在分别载置在上述第一台面(50)和第二台面(59)上的被处理基板表面上涂布处理液，形成膜的处理液涂布装置；基板输送装置(42a)，(42b)，相对于多个曝光装置(4a)，(4b)，而对通过上述涂布膜形成装置形成有膜的被处理基板进行输送。

基本信息

专利标题：

基板处理系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1755526A

申请号：

CN200510107965.1

公开（公告）日：

2006-04-05

申请日：

2005-09-30

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

归山武郎坂井光广梶原拓伸

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

优先权：

CN200510107965.1

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/20