一种体垂直各向异性的亚铁磁合金薄膜及其制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种体垂直各向异性的亚铁磁合金薄膜及其制备方法，包括衬底，位于所述衬底上的亚铁磁合金薄膜,位于所述亚铁磁合金薄膜上的MgO薄膜,位于所述MgO薄膜上的Pt薄膜；制备方法包括以下步骤：S1：在真空及高纯度氩气条件下，以过渡族磁性金属Co和稀土金属Tb为靶材，采用超高真空磁控溅射技术在衬底上共溅射Co和Tb得到CoTb亚铁磁合金薄膜层；S2:在真空及高纯度氩气条件下，以MgO陶瓷为靶材，采用超高真空磁控溅射技术在所述合金薄膜层上沉积MgO得到MgO薄膜层；S3：在真空及高纯度氩气条件下，以金属Pt为靶材，采用超高真空磁控溅射技术在所述MgO薄膜层上沉积Pt得到Pt薄膜层。本发明在粗糙度很大的铝箔片和柔性衬底上都能保持较好的垂直各向异性。
基本信息
专利标题 ：
一种体垂直各向异性的亚铁磁合金薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114015983A
申请号 ：
CN202111297810.4
公开（公告）日 ：
2022-02-08
申请日 ：
2021-11-04
授权号 ：
CN114015983B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
陈焕坚
申请人 ：
之江实验室
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张荣鑫
优先权 ：
CN202111297810.4
主分类号 ：
C23C14/16
IPC分类号 ：
C23C14/16 C23C14/18 C23C14/20 C23C14/35 C23C14/08 H01F41/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/16
在金属基体或在硼或硅基体上
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2022-02-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/16
申请日 : 20211104
申请日 : 20211104
2022-02-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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