一种电容器金属化薄膜生产用的镀膜装置
公开
摘要
本发明公开了一种电容器金属化薄膜生产用的镀膜装置，包括镀膜室，镀膜室内设有蒸镀发生装置，镀膜室内转动安装有薄膜料辊、卷绕辊、镀膜导辊和多个导向辊，薄膜料辊上套装有薄膜卷材，薄膜绕过镀膜导辊和多个导向辊并且与卷绕辊连接；镀膜室一侧设有驱动室，驱动室内安装有第一电机和第二电机，第一电机输出轴通过离合器与薄膜料辊位于驱动室内的一端连接，第二电机输出轴通过离合器与卷绕辊位于驱动室内的一端连接，薄膜料辊、卷绕辊、镀膜导辊和多个导向辊位于驱动室内的部分通过传动带卷材传动连接。该镀膜装置可通过传动带来代替薄膜起到传动和承受拉力的作用，使薄膜不会发生受拉变形，从而可提高薄膜的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种电容器金属化薄膜生产用的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114293149A
申请号 ：
CN202111412275.2
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
胡忠胜高声涛章瑞刘双田吕锡春
申请人 ：
安徽飞达电气科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市宁国市三津大道1号
代理机构 ：
合肥金律专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
程笃庆
优先权 ：
CN202111412275.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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