本发明的一种用于测量和控制纳米团簇生长的方法，基于测量装置，测量装置包括分别通过法兰接口与真空腔体连通的阳离子化装置，阴离子化装置，电场加速装置，隔膜型阀门，真空泵，四级质谱仪，高真空规，低真空规，飞行时间质谱仪，法拉第杯，隔膜型闸门。本发明可以有效的同时对不同带电情况且不同尺寸的纳米团簇进行筛选，进而可以实现对一定范围尺寸的纳米团簇薄膜的可控生长。本发明可以分别对带正电和负电属性的纳米团簇进行电荷和尺寸的筛选；在使用时间飞行质谱仪进行不同核质比团簇的筛选时，只能对带电的团簇进行筛选，本系统的其中一个优点在于可以将从喷嘴出射的电中性团簇电离化，这样就会增加筛选的团簇的数量，提高了镀膜效率。