一种制备多级微纳米褶皱结构的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种制备多级微纳米褶皱结构的方法：首先在硬质支撑材料上覆盖一层液态的有机聚合物材料，接着利用磁控溅射仪沉积一层金属薄膜。由于液态有机聚合物在溅射过程中力学性质会发生连续变化，同时柔性基底与刚性金属薄膜构成的双层体系中力学性能差别非常大，因而薄膜表面在制备过程中会自发形成多级的微纳米褶皱结构。本发明利用材料的自组装效应一步完成多级微纳米褶皱的制备，该制备方法简单、成本低、周期短、产率高且易于控制。
基本信息
专利标题 ：
一种制备多级微纳米褶皱结构的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318262A
申请号 ：
CN202111491076.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
余森江王巧帆周红卢晨曦李领伟
申请人 ：
杭州电子科技大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市钱塘新区白杨街道2号大街1158号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111491076.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/20 B82Y30/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20211208
申请日 : 20211208
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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