纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体
授权
摘要
本申请公开了一种纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体，该纳米结构色晶体的制备方法包括：提供一基板；将保护材料设置于基板上，以对基板形成一流平层；将脱膜剂设置于流平层上，以形成一牺牲层；将光学介质材料设置于牺牲层上，以形成一光学薄膜；剥离光学薄膜；将光学薄膜碎化，过筛后得到纳米结构色晶体。通过上述方式，本申请不需要频繁更换基板，能够解决生产成本过高的问题。
基本信息
专利标题 ：
纳米结构色晶体的制备方法、生产系统及纳米结构色晶体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111321378A
申请号 ：
CN201811543448.2
公开（公告）日 ：
2020-06-23
申请日 ：
2018-12-17
授权号 ：
CN111321378B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
马道远
申请人 ：
深圳市融光纳米科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道科技路一号桑达科技大厦2A18
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟子敏
优先权 ：
CN201811543448.2
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/26 C23C14/58 C30B29/60 C30B23/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2022-03-22 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : C23C 14/30
登记生效日 : 20220310
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 深圳市融光纳米科技有限公司
变更后权利人 : 宁波融光纳米科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技路一号桑达科技大厦2A18
变更后权利人 : 315000 浙江省宁波市奉化区经济开发区滨海新区滨海大道388号
登记生效日 : 20220310
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 深圳市融光纳米科技有限公司
变更后权利人 : 宁波融光纳米科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技路一号桑达科技大厦2A18
变更后权利人 : 315000 浙江省宁波市奉化区经济开发区滨海新区滨海大道388号
2020-07-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20181217
申请日 : 20181217
2020-06-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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