聚乙二醇修饰的大位阻咪唑鎓基阴离子交换膜的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了聚乙二醇修饰的大位阻咪唑鎓基阴离子交换膜的制备方法，阴离子交换膜由以聚乙二醇单甲醚修饰的大空间位阻咪唑鎓基化合物组成；制备方法：步骤1：碘基取代的聚乙二醇单甲醚化合物的制备；步骤2：2‑均三甲基苯‑4，5‑二苯基‑1H‑咪唑化合物的合成；步骤3：2‑均三甲基苯‑4,5‑二苯基‑1‑聚乙二醇单甲醚‑咪唑化合物的制备；步骤4：聚乙二醇单甲醚修饰的大空间位阻咪唑鎓基共聚物的合成；步骤5：阴离子交换膜的制备。本发明所制备的阴离子交换膜，在一定程度上抵消大位阻空间取代基对聚合物链缠结的破坏，提高了大空间位阻咪唑鎓基聚合物膜的水合性能和导电率。
基本信息
专利标题 ：
聚乙二醇修饰的大位阻咪唑鎓基阴离子交换膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369250A
申请号 ：
CN202111499986.8
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张小娟郭嘉乾方长青李南文刘磊
申请人 ：
西安理工大学
申请人地址 ：
陕西省西安市碑林区金花南路5号
代理机构 ：
西安弘理专利事务所
代理人 ：
涂秀清
优先权 ：
CN202111499986.8
主分类号 ：
C08G81/00
IPC分类号 ：
C08G81/00 C08J5/22 C08L87/00 H01M8/103 H01M8/1069
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G81/00
在没有单体存在时，由聚合物相互作用得到的高分子化合物，如嵌段聚合物
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 81/00
申请日 : 20211209
申请日 : 20211209
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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