一种用于高功率脉冲磁控溅射的电源装置及其控制方法
实质审查的生效
摘要
本申请属于磁控溅射技术领域，具体涉及一种用于高功率脉冲磁控溅射的电源装置及其控制方法，采用高频逆变技术将三相电调整到预置的直流电压值，通过变压器经过整流滤波为电容组储能提供能量，多个电容组通过电位串联叠加实现高压脉冲输出。电容组储能后经过斩波器实现高功率脉冲输出。本申请实施例提供一种用于高功率脉冲磁控溅射的电源装置及其控制方法，相对恒压控制具有明显的恒电流特性，更适合于磁控溅射的应用，具有抑制电弧的特性，具有工艺重复性好等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于高功率脉冲磁控溅射的电源装置及其控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114362582A
申请号 ：
CN202111505873.4
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
贺岩斌熊涛姜亚南黄雨李民久邵斌
申请人 ：
核工业西南物理研究院;中核同创（成都）科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
王婷
优先权 ：
CN202111505873.4
主分类号 ：
H02M9/06
IPC分类号 ：
H02M9/06 H02M5/458 H02M7/217 H02M7/48 C23C14/35
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H02M 9/06
申请日 : 20211210
申请日 : 20211210
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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