一种氧化铟锡钽镱粉体及其制备方法与应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种氧化铟锡钽镱粉体及其制备方法与应用，属于氧化铟掺杂粉体制备技术领域；本发明的氧化铟锡钽镱粉体的结构式为In1‑x‑y‑zSnxTayYbzO1.5+0.5x+y；其中，0.001≤x≤0.05，0.001≤y≤0.05，0.001≤z≤0.05；所述粉体的D50＝0.905‑1.08μm；本发明的技术方案提供的氧化铟锡钽镱粉体，选择锡、钽和镱三个元素作为掺杂元素掺入氧化铟粉体中，能够制备得到成分均一、粒径分布窄的氧化铟锡钽镱粉体；本发明提供的氧化铟锡钽镱粉体的制备工艺简单、制备效率高，因此能直接应用于工业生产，制备得到的产品可用于制备高密度、高均匀度、具备优异光电特性的氧化铟锡钽镱靶材。
基本信息
专利标题 ：
一种氧化铟锡钽镱粉体及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114277334A
申请号 ：
CN202111548080.0
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张来稳邵学亮李开杰王奇峰李晴晴
申请人 ：
先导薄膜材料（广东）有限公司
申请人地址 ：
广东省清远市高新区百嘉工业园27-9号A区
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
颜希文
优先权 ：
CN202111548080.0
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20211215
申请日 : 20211215
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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