一种锰钴尖晶石涂层的制备方法及其应用
实质审查的生效
摘要
本发明提出了一种锰钴尖晶石涂层的制备方法及应用。本发明通过将待喷涂基体与锰钴靶材共置于真空无氧环境内，使用高温电弧加热锰钴金属靶材，使其气化并使锰钴蒸气充满整个腔体；使样品保持较低温度如300℃，使锰钴蒸气在待喷涂基体表面凝华形成锰钴金属预涂层；然后将表面带有锰钴金属预涂层在待喷涂基体在高温空气中氧化，得到锰钴尖晶石涂层。本发明得到的锰钴尖晶石涂层质地均匀致密，高温下导电性良好，其面比电阻可以达到10mΩ·cm2以下，具备良好的稳定性，在500小时的范围内无明显电阻上升；可以广泛应用于固体氧化物燃料电池中。
基本信息
专利标题 ：
一种锰钴尖晶石涂层的制备方法及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318248A
申请号 ：
CN202111550682.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘长磊金奕千靳现林王巍张晓宇由晓彬刘大为许潇涵
申请人 ：
国家能源集团新能源有限责任公司;中国矿业大学（北京）
申请人地址 ：
北京市昌平区北七家镇未来科技城北滨河路路北
代理机构 ：
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN202111550682.X
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/14 C23C14/58 C22C19/07 C22C1/02 H01M8/021 H01M8/0228
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20211217
申请日 : 20211217
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
