本发明公开了一种水基微电子剥离清洗组合剂，包括纯水、金属保护液、脱胶液、腐蚀抑制剂、相容液、过硫酸钠、异丙醇，所述相容液为丙二醇，所述金属保护液包括纯水、聚马来酸酐以及二乙基次膦酸锌，所述脱胶液为次氯酸季烷基铵的甲基吡咯烷酮溶液，所述腐蚀抑制剂为景天庚酮糖的水溶液。本发明属于电子元器件生产清洗技术领域，具体是提供了一种可以使晶圆表面卤素离子含量降低，可以在金属表面形成金属保护膜，阻止氯离子、氧气、氢氧根离子对金属腐蚀，可以快速清洗掉光刻胶，可以进一步减少对金属的腐蚀，可以使蚀刻残余物被溶解或冲走的水基微电子剥离清洗组合剂。