离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质,涉及质量分析技术领域,包括:离子引入步骤:打开离子阱的离子门,将质谱仪的后端盖置于预设电位,捕捉离子;离子囚禁步骤:关闭离子门,捕捉的离子稳定在离子阱中心区域;离子隔离步骤:根据正电压所占DDS数量和/或隔离时间,获取母离子质荷比m/z、隔离质量数范围以及母离子隔离效率值中的任一种或任多种;隔离冷却步骤:将离子置于预设值处,根据预设隔离冷却时间对离子进行冷却;离子清空步骤:在离子阱电极上施加预设占空比,完成离子清空。本发明硬件要求低,通过调节数字矩形波主射频的占空比,就可在离子阱中产生等效的“四极直流”,无需额外高精度高稳定性的硬件直流电路。
基本信息
专利标题 :
离子阱质谱仪的离子隔离方法、系统及介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114388334A
申请号 :
CN202111573135.3
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2021-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
薛兵孙露露路同山胡波唐朝阳王玉涵罗勇李飞陈延龙
申请人 :
上海裕达实业有限公司
申请人地址 :
上海市闵行区华宁路251号
代理机构 :
上海段和段律师事务所
代理人 :
王丹东
优先权 :
CN202111573135.3
主分类号 :
H01J49/02
IPC分类号 :
H01J49/02 H01J49/26
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 49/02
申请日 : 20211221
申请日 : 20211221
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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