一种通过操纵衬底宏观移动轨迹实现纳米结构书写的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种通过操纵宏观衬底移动轨迹设计制备微纳米结构的方法,包括:采用微米尺度的物体将掩膜版隔空支撑于衬底上,在蒸镀或溅射等材料生长或离子束刻蚀或光刻蚀过程中,通过控制衬底的宏观移动轨迹,使材料或刻蚀源通过掩膜版在衬底表面形成与衬底宏观移动轨迹相同、尺寸缩小的微纳米结构。所述衬底的宏观移动轨迹不在以蒸镀源或溅射源为球心的球面上。本发明方法操作简便、设计灵活且制备的微纳米结构的尺寸和形状精准可控,在微纳米结构相关的超表面、等离激元、磁性材料、半导体器件制造等领域具有巨大的实际应用潜力。
基本信息
专利标题 :
一种通过操纵衬底宏观移动轨迹实现纳米结构书写的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114524406A
申请号 :
CN202111588983.1
公开(公告)日 :
2022-05-24
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨士宽徐超刘洪夏群栋
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
邱启旺
优先权 :
CN202111588983.1
主分类号 :
B81C1/00
IPC分类号 :
B81C1/00 B82Y40/00 C23C14/04 C23C14/24 C23C14/34 C23C14/54
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2022-06-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81C 1/00
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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