一种纹理采样方法、设备、存储介质
公开
摘要
本申请提供一种纹理采样方法、设备、存储介质，该方法包括：基于目标点确定纹理坐标；根据纹理坐标计算各向同性多细节层次值LODmax；根据LODmax确定各向异性多细节层次值LODaniso；根据LODmax和LODaniso生成采样点；基于采样点计算目标点的纹理值。本申请根据各向同性多细节层次值LODmax和各向异性多细节层次值LODaniso生成采样点；基于采样点计算目标点的纹理值，可以获得比各向同性采样更准确的纹理值，且节省资源、易于硬件实现。
基本信息
专利标题 ：
一种纹理采样方法、设备、存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114283063A
申请号 ：
CN202111590413.6
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李可寒
申请人 ：
长沙景嘉微电子股份有限公司;长沙景美集成电路设计有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区梅溪湖路1号长沙景嘉微电子股份有限公司
代理机构 ：
北京科慧致远知识产权代理有限公司
代理人 ：
宋珊珊
优先权 ：
CN202111590413.6
主分类号 ：
G06T3/40
IPC分类号 ：
G06T3/40 G06T15/04 G06T1/60
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T3/00
在图像平面内的图形图像转换
G06T3/40
整个或部分图像的缩放
法律状态
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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