一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，包括弧形板本体，其实施为一面为平面，另一面为弧面；所述弧形板本体的宽度方向的其中一个侧面上加工有若干间隔的、且朝向另一个侧面延伸的孔，所述孔用于插入控温热电偶；所述弧形板本体的弧面的两端分别铣有多个用于限制带材横向漂移的限位部。通过在弧形板上引入限位机构也即限位槽，可以保证带材在限位槽内顺利运动，也可起到限制带材横向漂移的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114262879A
申请号 ：
CN202111595437.0
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
章鹏冯仁岳鹏张爱兵迮建军古宏伟蔡渊
申请人 ：
苏州新材料研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区星湖街218号生物纳米园C18楼
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
范晴
优先权 ：
CN202111595437.0
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46 C23C16/54 C23C16/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/46
申请日 : 20211224
申请日 : 20211224
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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