扫描位置校准方法、装置及系统
实质审查的生效
摘要

本申请提供了一种扫描位置校准方法、装置及系统,其中,方法应用于控制系统;控制系统分别与扫描系统、布设于吸收板下方的温度传感器阵列通信连接;吸收板和温度传感器阵列均置于设备成型区内;每个温度传感器正上方位于吸收板下表面的位置为一个检测节点;方法包括:根据控制指令开启激光,以使激光经扫描系统偏转后到达设备成型区内的吸收板上的指定坐标值对应位置;在激光在吸收板上形成稳定热区后,通过传感器阵列获取各检测节点分别对应的温度值;根据各检测节点分别对应的温度值,确定激光到达吸收板上的实际位置对应的实际坐标值;基于指定坐标值和实际坐标值,对扫描系统进行校准。本申请能够提高扫描系统的扫描位置的校准精度。

基本信息
专利标题 :
扫描位置校准方法、装置及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114264233A
申请号 :
CN202111598043.0
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
彭伟姜源源许小曙
申请人 :
湖南华曙高科技股份有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市长沙高新开发区林语路181号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
徐丽
优先权 :
CN202111598043.0
主分类号 :
G01B11/00
IPC分类号 :
G01B11/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/00
申请日 : 20211224
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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