测量装置的测量分辨率优化方法、装置、设备及存储介质
实质审查的生效
摘要

本发明实施例公开了测量装置的测量分辨率优化方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:获取测量装置以原始测量分辨率相对被测对象在当前测量点的当前测量原始值,并获取上一测量点相对期望测量分辨率关联的上一目标测量集;根据所述当前测量原始值及所述上一目标测量集,结合预确定的贡献因子序列,确定所述测量装置在所述期望测量分辨率下相对所述当前测量点的当前目标测量集。上述技术方案,采用依据测量装置的上一目标测量集、当前测量原始值以及贡献因子序列,计算当前测量点的当前目标测量集的方式,相对于现有利用纯物理手段提升测量分辨率的方法而言,本发明实施例具有经济性,极少约束性的特点,可以提高测量装置的测量分辨率。

基本信息
专利标题 :
测量装置的测量分辨率优化方法、装置、设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114278281A
申请号 :
CN202111599587.9
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王维虎蔡小林胡小杰
申请人 :
北京西华益昌技术开发有限责任公司
申请人地址 :
北京市顺义区北京空港物流基地物流园八街1号二层B2-291
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
郭德霞
优先权 :
CN202111599587.9
主分类号 :
E21B49/00
IPC分类号 :
E21B49/00  E21B47/002  G06F17/11  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进;采矿
E21B
土层或岩石的钻进;从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆
E21B49/00
测试井壁的性质;地层测试;专用于地表钻进或钻井以便取得表土或井中液体试样的方法或设备
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : E21B 49/00
申请日 : 20211224
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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