一种含吡唑啉基团的光致产酸剂及制备方法和应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种含吡唑啉基团的光致产酸剂及制备方法和应用，适用于I线(365nm)光刻胶，属于化学合成及光刻材料领域。特别涉及式(I)或(II)所示结构的新型化合物，该光致产酸剂在365nm处光吸收良好，具有优异的光生酸性能，且其制备过程中，原料易得、路线简单，便于工业化制备。本发明所合成的带有吡唑啉基团的磺酸根阴离子具有较大体积，增大了光生磺酸的分子量，在其参与的光刻胶的光刻过程中可有效降低光生酸的扩散，改善边缘粗糙度，减小线宽粗糙度，提高分辨率。
基本信息
专利标题 ：
一种含吡唑啉基团的光致产酸剂及制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114276296A
申请号 ：
CN202111614422.4
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金明王永辉
申请人 ：
同济大学
申请人地址 ：
上海市杨浦区四平路1239号
代理机构 ：
上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
叶凤
优先权 ：
CN202111614422.4
主分类号 ：
C07D231/06
IPC分类号 ：
C07D231/06 C07D413/10 C07C381/12 C07C25/18 G03F7/004
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D231/00
杂环化合物，含1,2-二唑或氢化1,2-二唑环
C07D231/02
不与其他环稠合
C07D231/06
环原子间或环原子与非环原子间有1个双键
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 231/06
申请日 : 20211227
申请日 : 20211227
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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