OPC模型数据收集方法、数据收集系统及OPC模型优化方法
实质审查的生效
摘要

公开了一种OPC模型数据收集方法、数据收集系统及OPC模型优化方法,OPC模型数据收集方法包括:采用初始OPC模型对测试图案的曼哈顿版图进行仿真得到仿真结果;将所述仿真结果输入量测工具中,建立特征尺寸量测标准;以及采用所述特征尺寸量测标准采集所述测试图案的实际晶圆图案的特征尺寸,得到收集数据。该OPC模型数据收集方法及数据收集系统通过采用初始OPC模型对测试图案的曼哈顿版图进行了仿真,再采用仿真结果建立特征尺寸量测标准,经过仿真的版图与实际晶圆的尺寸相差较小,以此建立特征尺寸量测标准能更好的与实际晶圆的图案吻合,保证良好的数据收集结果,使得数据收集准确,进而能得到更精确的模型校准结果。

基本信息
专利标题 :
OPC模型数据收集方法、数据收集系统及OPC模型优化方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488680A
申请号 :
CN202111622746.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张昆张雷
申请人 :
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 :
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡纯
优先权 :
CN202111622746.2
主分类号 :
G03F1/36
IPC分类号 :
G03F1/36  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/36
申请日 : 20211228
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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