量子点膜器件的制作方法、量子点膜器件及显示面板
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种量子点膜器件的制作方法、量子点膜器件及显示面板，所述量子点膜器件的制作方法通过在第一基板表面形成用于容置量子点膜的凹槽，凹槽的两侧壁形成阻隔壁，结合第二基板与阻隔壁的熔融形成对凹槽内的量子点膜的封装、密封，与现有采用光学级水氧阻隔膜密封相比，形成的量子点膜器件的密封性更好，能有效阻隔水、氧，防止量子点膜内的量子点失效。
基本信息
专利标题 ：
量子点膜器件的制作方法、量子点膜器件及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114497429A
申请号 ：
CN202111632076.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈锦
申请人 ：
广州华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区（中新广州知识城）亿创街1号406房之417
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
马广旭
优先权 ：
CN202111632076.2
主分类号 ：
H01L51/56
IPC分类号 ：
H01L51/56 H01L51/52 H01L51/50 H01L27/32
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/56
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
