一种高性能光学薄膜及其制备工艺
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种高性能光学薄膜及其制备工艺,涉及光学薄膜技术领域,解决了现有的光学薄膜除湿防护性能较差的问题,包括高性能光学薄膜包括基体膜层,所述基体膜层的顶侧依次层叠设置有紫外线吸收模层、抗红外光膜层和耐磨层,所述基体膜层的底侧设置有粘胶层,且所述粘胶层的外侧设置有离型层。本发明通过将透明电加热薄膜作为本发明的基体膜层,可实现光学薄膜在实际运用时,因内外温差较大的原因在其表面产生湿气雾化,通过透明电加热薄膜在通电后产生热量,可有效避免光学薄膜表面产生湿气雾化,从而可有效提高光学薄膜在使用时的便利性。
基本信息
专利标题 :
一种高性能光学薄膜及其制备工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114325892A
申请号 :
CN202111672803.8
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙威
申请人 :
苏州美赞晨新材料有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区临湖镇采莲工业园采旺路158号
代理机构 :
宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈振伟
优先权 :
CN202111672803.8
主分类号 :
G02B1/18
IPC分类号 :
G02B1/18 G02B1/14 G02B1/10 G02B5/20 G02B5/22 G02B5/28 H05B3/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/18
用于保持光学表面清洁的涂层,例如,疏水或光催化薄膜
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/18
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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