可调节电浆曲线的处理装置
公开
摘要
本发明提供一种可调节电浆曲线的处理装置，包含：一腔体，具有一内壁及一顶部；一喷淋板，固定于所述腔体的顶部；一支撑座，位于所述腔体中以承载一基板，所述支撑座、所述喷淋板和该腔体的内壁定义一处理区域；及一金属环，位于所述喷淋板与该支撑座之间，藉由一隔离手段使所述金属环未暴露于所述处理区域中也未电接触所述腔体的内壁。
基本信息
专利标题 ：
可调节电浆曲线的处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114293177A
申请号 ：
CN202111674993.7
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张赛谦林英浩
申请人 ：
拓荆科技股份有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南区水家900号
代理机构 ：
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄海霞
优先权 ：
CN202111674993.7
主分类号 ：
C23C16/509
IPC分类号 ：
C23C16/509 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/505
采用射频放电
C23C16/509
采用内电极
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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