反射式位移测量装置
授权
摘要
本实用新型提供一种反射式位移测量装置，包括：投影系统、指示光栅、反射标尺光栅和接收系统，投影系统发出的平行光入射到指示光栅，并经过指示光栅入射到反射标尺光栅的表面，再反射回指示光栅产生莫尔条纹投影到接收系统转换为电信号；指示光栅包括玻璃基材，在玻璃基材镀有吸光膜，在吸光膜上刻蚀有由振幅光栅和相位光栅组成的只拥有±1级衍射条纹的复振幅光栅。本实用新型提供的反射式位移测量装置能够在提高能使用率、降低光栅的制造难度的条件下获得理想的光强分布。
基本信息
专利标题 ：
反射式位移测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202120659601.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-03-31
授权号 ：
CN216593208U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
苟敬德王洋杨尚赵尔瑞李德胜
申请人 ：
长春禹衡光学有限公司
申请人地址 ：
吉林省长春市高新开发区飞跃东路333号
代理机构 ：
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
高一明
优先权 ：
CN202120659601.9
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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