一种基于反射式单全息光栅的位移测量系统
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种基于反射式单全息光栅的位移测量系统,属于精密位移测量系统领域,主要用于精密机械加工行业,包括激光器、准直透镜、光隔离器、反射镜、分光棱镜、偏振光分光棱镜、光电探测器、高密度全息光栅、1/4波片、信号调理系统、数据采集卡和计算机;所述激光器发出光束经过一系列相位及偏振态的改变,使光电探测器接收到光强信号的变化,通过信号调理系统后传输给数据采集卡,传输给计算机显示微小位移量。该实用新型采用高密度全息光栅,利用光栅栅距作为测量基准,测量精度高,减小了由于非正交及光栅定位不准带来的位移测量误差,减小环境对测量结果的影响。

基本信息
专利标题 :
一种基于反射式单全息光栅的位移测量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920395952.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-03-27
授权号 :
CN209894118U
授权日 :
2020-01-03
发明人 :
高仁祥李劲松
申请人 :
中国计量大学
申请人地址 :
浙江省杭州市江干区学源街258号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920395952.6
主分类号 :
G01B11/02
IPC分类号 :
G01B11/02  G01B9/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-03-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01B 11/02
申请日 : 20190327
授权公告日 : 20200103
终止日期 : 20210327
2020-01-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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