一种清洗载具
授权
摘要
本实用新型涉及一种清洗载具，它包括盖板(1)和底座(2)，所述底座(2)位于盖板(1)下方，所述盖板(1)呈中间镂空的框形结构，所述盖板(1)底部边缘位置设置有第一磁铁(3)，所述底座(2)顶部边缘位置设置有第二磁铁(4)，所述第二磁铁(4)的位置与第一磁铁(3)的位置相对应，所述底座(2)中间区域开设有凹槽(5)，所述凹槽(5)为两段下沉式结构。本实用新型一种清洗载具，基板的正反面可以同时进行回流清洗，减少回流清洗次数，节省工艺，降低热制程对封装厂后续工序作业性风险。
基本信息
专利标题 ：
一种清洗载具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121649090.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-07-20
授权号 ：
CN216354093U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
余江蒋吉
申请人 ：
江苏长电科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市江阴高新区长山路78号
代理机构 ：
北京中济纬天专利代理有限公司
代理人 ：
赵海波
优先权 ：
CN202121649090.9
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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