半导体用超纯化学品储罐的无杂质加工车间
授权
摘要
本实用新型公开了半导体用超纯化学品储罐的无杂质加工车间，包括墙体，所述墙体一侧固定连接有水箱，所述水箱顶部设置有过滤机构。该半导体用超纯化学品储罐的无杂质加工车间，通过过滤机构的设计，扇叶转动将外界的空气通过两个滤网吸入框体内部，此时空气中含有的较大颗粒杂质通过滤网过滤在外界，其余的空气通过框体进入至入水管中，随后通过入水管排入水中，水将空气中剩余的杂质吸附过滤，随后空气排出水面通过第一排气管排出至箱体内部，活性炭进一步对空气中所富含的有害气体和物质进一步进行过滤，通过以上对空气的分类过滤，最终可以保证进入车间内部空气的纯净度，确保加过过程不受杂质影响。
基本信息
专利标题 ：
半导体用超纯化学品储罐的无杂质加工车间
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122302944.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-23
授权号 ：
CN216498342U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
宋国华
申请人 ：
无锡氟士德防腐科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区前洲配套区兴洲路11号
代理机构 ：
常州格策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
翟丹丹
优先权 ：
CN202122302944.2
主分类号 ：
B01D50/60
IPC分类号 ：
B01D50/60 B01D53/04
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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