用于片上聚焦柱矢量光束的超表面结构及片上检测装置
授权
摘要
一种用于片上聚焦柱矢量光束的超表面结构,其包括:多个第一自旋响应结构单元,其中每个第一自旋响应结构单元包括:长条形的第一纳米狭缝;和长条形的第二纳米狭缝,其中第二纳米狭缝的长轴垂直于第一纳米狭缝的长轴,多个第一纳米狭缝的中心点分别沿半环形轨迹以均匀间隔进行排列,多个第二纳米狭缝分别位于半环形轨迹的径向外侧,并且对于同一个第一自旋响应结构单元,第一纳米狭缝的长轴与第二纳米狭缝的长轴之间的角平分线与半环形轨迹在第一纳米狭缝的中心点处的切线的方向相同,以使得柱矢量光束垂直照射超表面结构时聚焦在超表面结构上的一点处。还提出了一种包括如上超表面结构的检测柱矢量光束的阶数的片上检测装置。
基本信息
专利标题 :
用于片上聚焦柱矢量光束的超表面结构及片上检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122468600.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-13
授权号 :
CN216485606U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
刘佩军付亚男闵长俊张聿全袁小聪
申请人 :
深圳大学
申请人地址 :
广东省深圳市南山区粤海街道南海大道3688号
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
颜思晨
优先权 :
CN202122468600.9
主分类号 :
G02B5/00
IPC分类号 :
G02B5/00 G02B27/09 G01J11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载