一种控制啁啾艾里光束聚焦位置的系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种控制啁啾艾里光束聚焦位置的系统，包括：激光器，用于发射光束；扩束镜，用于对光束进行扩束；分光棱镜，用于将光束投射到空间光调制器；空间光调制器，用于对光束进行立方相位调制；傅里叶透镜，用于对光束进行傅里叶调制，得到艾里光束；啁啾发生器，用于对艾里光束进行调制，即在强度调制器中，用射频信号对该光束进行强度调制驱动，得到加载了射频信息的强度脉冲信号；啁啾发生器中的强度调制器，用于调整强度调制器中的直流偏置工作点的位置进行相位调节，来控制加载的啁啾，将光束打入二次方折射率介质中传播，控制啁啾艾里光束在二次方折射率介质中传播的聚焦位置。本实用新型节省成本，能够很好的控制波束聚焦控制。

基本信息

专利标题：

一种控制啁啾艾里光束聚焦位置的系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020544150.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-14

授权号：

CN212460274U

授权日：

2021-02-02

发明人：

吴理汛邓冬梅

申请人：

华南师范大学

申请人地址：

广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学信息光电子科技学院

代理机构：

广州容大知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

潘素云

优先权：

CN202020544150.X

主分类号：

G02F1/35

IPC分类号：

G02F1/35 G02B27/09